德国Sentech Instruments GmbH 公司的所有产品，该公司位于德国*都柏林，是一家从事薄膜测量仪器和等离子体设备研发、生产的高科技公司。SENTECH公司生产的各种等离子体刻蚀、沉积设备具有高刻蚀率、低损伤、低温、高均匀度、沉积速度快等特点，广泛地用于半导体、微系统、有机薄膜等领域。

SENTECH公司致力于发展薄膜测量技术(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)和等离子加工技术(等离子刻蚀、沉积系统，定制解决方案)，**研发、制造、销售相关仪器和设备。

激光椭偏仪SE 400advanced

多角度激光椭偏仪 SE400advanced使用632.8nm波长HeNe激光器，对测量薄膜厚度，折射率和吸收系数有非常出色的精度。 SE400advanced能够分析单层膜，多层膜和大块材料(基底)

• 超高精度和稳定性，来源于高稳定激光光源、温度稳定补偿器设置、起偏器跟踪和超低噪声探测器

• 高精度样品校准，使用光学自动对准镜和显微镜

• 快速简易测量，可选择不同的应用模型和入射角度

• 多角度测量，可完全支持复杂应用和*准厚度

• 全方面的预设应用，包含微电子、光电、磁存储、生命科学等领域

规格:

• 激光波长632.8 nm

• 150 mm (z-tilt) 载物台

• 入射角度可调，步进5º

• 自动对准镜/显微镜，用于样品校准

• Small footprint

• 以太网接口连接到PC

SE 400advanced软件特征:

• 预先定义应用

• 多角度测量

• 广泛的材料数据库

• 拟合状况的图形反馈

• 支持多种语言

代表型号：SI500、SI500PPD、SE400advanced、SE500advanced、SE 900-50、SENDURO、SENresearch、Reflectometer RM、Etchlab200、SI100.....

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